中国光刻机现在已经发展到了多少纳米级别的光刻技术，这是当前科技领域一个备受关注的话题。光刻技术是半导体制造过程中至关重要的一环，直接影响到芯片的制造精度和性能。在这个领域，中国自主研发光刻机，正逐渐实现技术突破，达到世界领先水平。

针对矽基芯片制造中的7纳米、5纳米等微细加工工艺，中国光刻机已经成功实现了量产，具备了与国际名牌光刻机同等的加工能力。目前在中国，ASML是世界知名的光刻机制造商之一，其最先进的EUV（极紫外光）技术是当下在7纳米及以下微细制程上最为理想的解决方案。中国的光刻机厂商正在致力于研发EUV光刻机，并有望实现国产化。

然而，与ASML相比，中国的光刻机制造商尚在发展的初期，面临一定的技术挑战。国际市场竞争激烈，美国ASML、荷兰ASML以及日本尼康等公司拥有巨大的市场份额和技术优势。不过，中国的光刻机企业通过技术引进、自主创新等手段，逐渐缩小与国际先进水平的差距。

值得一提的是，近年来中国政府加大了对半导体产业的支持力度。出台了一系列政策，包括资金扶持、技术引进和人才培养等方面的支持。这些政策的实施为中国光刻机企业提供了有利条件，加速了国内光刻机技术的发展。

除了中国，其他国家也在努力迎头赶上。韩国为了实现自主创新，已经在研发下一代的光刻技术。台湾也在积极推动半导体产业的发展，其光刻机技术也在逐渐提升。然而，中国在光刻机制造方面的投入和实力已经引起了世界的关注。

总体来说，中国光刻机已经在纳米级别的光刻技术上取得了一定的突破，且国内厂商正朝着EUV技术的研发方向不断努力。虽然与国际领先厂商相比，仍存在一定的差距，但随着中国政府的支持和企业的不断努力，相信中国光刻机制造业将逐渐实现国产化，并在全球市场上占有一席之地。毋庸置疑，中国在光刻机制造领域的进步将不仅推动中国半导体产业的发展，同时也增强了中国在全球科技竞争中的实力。