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深入剖析 LDO 中 NMOS 与 PMOS 的差异特性

 

2025-06-05 10:02:38

晨欣小编

一、LDO 稳压器工作原理概述

LDO稳压器主要由以下几个部分组成:

  • 参考电压源(Bandgap Reference)

  • 误差放大器(Error Amplifier)

  • 功率管(PMOS或NMOS)

  • 反馈电路(Voltage Divider)

其基本工作过程如下:

误差放大器比较输出电压(分压后)与参考电压,并调节功率管的导通程度,使输出电压稳定在设定值。


二、NMOS 与 PMOS 基本特性对比

参数/特性

NMOS

PMOS




载流子类型

电子(高迁移率)

空穴(低迁移率)

开启条件

V<sub>GS</sub> > V<sub>th</sub>

V<sub>SG</sub> >

R<sub>DS(on)</sub>

小,导通能力强

大,导通能力弱

驱动复杂性

需外加高压驱动

可直接由地参考驱动

适用于

高效率、快速响应

简单、低功耗系统

三、PMOS 架构 LDO 特性分析

1. 原理图结构

PMOS作为“高边开关”,源极接输入电源,漏极接输出端。控制端(栅极)通常由误差放大器拉低,调节其导通程度。

2. 优势

  • 驱动简单:只需将栅极电压拉低即可导通,控制电路不需要额外升压。

  • 结构简洁:适合面积、功耗受限的SoC内置稳压器。

  • 无外部供电要求:全部电源自供,适合嵌入式系统。

3. 劣势

  • 通态电阻大:空穴迁移率低导致R<sub>DS(on)</sub>较高,压差较大时功耗增大。

  • 响应速度较慢:开关特性比NMOS慢,限制了其在高带宽LDO中的表现。

  • 最大负载电流受限:高R<sub>DS(on)</sub>限制了其对大电流负载的供电能力。

4. 适用场景

  • 电流需求较低(<500mA)的系统;

  • 移动终端、摄像头模块、射频前端等对噪声敏感的应用;

  • 内置LDO(如MCU、FPGA中)。


四、NMOS 架构 LDO 特性分析

1. 原理图结构

NMOS作为“高边开关”时,漏极接输入电源,源极为输出。控制栅极需高于V<sub>in</sub> + V<sub>th</sub>以确保导通。

2. 优势

  • 导通性能强:电子迁移率高,R<sub>DS(on)</sub>小,适合大电流输出;

  • 压差更低:能实现超低Dropout电压,适用于对功率效率要求高的应用;

  • 响应速度快:MOS驱动快速,适合对瞬态响应要求高的系统。

3. 劣势

  • 驱动电路复杂:需要提供高于输入电压的控制电压(通常借助电荷泵);

  • 稳定性设计更难:存在PMOS不具备的反相放大特性,需注意相位裕度设计;

  • 增加静态功耗:电荷泵和偏置电路可能带来额外功耗。

4. 适用场景

  • 大电流LDO(>1A);

  • 核心供电电源(如CPU核心电压);

  • 高速ADC、FPGA供电系统。


五、PMOS 与 NMOS LDO 架构对比分析

特性/参数

PMOS LDO

NMOS LDO




最小压差(Dropout)

通常为V<sub>SG</sub> - V<sub>th</sub> ≥ 300~500mV

取决于驱动能力,最低可至几十mV

输出电流能力

适合小电流(<500mA)

适合大电流(>1A)

响应速度

中等偏慢

快速响应

静态功耗

较低

可能较高(需电荷泵)

稳定性控制

相对容易

稳定性设计复杂

驱动需求

无需额外电压

需升压或电荷泵辅助驱动

成本

更低,设计简单

成本高,适合高性能要求场合

六、实际案例对比

案例1:AMS1117(PMOS典型LDO)

  • Dropout电压:1.1V@1A;

  • 输出稳定性好,纹波低;

  • 适合小型消费类设备。

案例2:TPS7A47(NMOS架构)

  • Dropout电压:<200mV@1A;

  • 输出噪声极低,响应时间短;

  • 适合音频、模拟前端供电、高性能ADC系统。


七、工程应用建议

如何选择NMOS或PMOS架构LDO:

  • 优先考虑PMOS

    • 若系统设计简单,预算有限;

    • 电流需求较低;

    • 无需极低Dropout电压;

    • 空间和EMI设计要求高。

  • 优先考虑NMOS

    • 对负载响应、电源效率有严格要求;

    • 大电流输出需求;

    • 使用多个电源轨或辅助供电源;

    • 对热设计有优化空间。


八、总结与前景展望

NMOS与PMOS各有优势,关键在于针对应用需求选择合适架构。随着工艺演进,NMOS型LDO通过集成电荷泵和稳定性补偿技术已日趋成熟,其在高性能、低功耗领域中的比重正在持续增加。而PMOS型LDO因其结构简单、功耗低、成本可控,仍将在中低端消费类市场中保持广泛应用。未来,高集成、高性能、低噪声的LDO解决方案将更多采用混合架构,如“NMOS主功率+PMOS预驱动”的复合设计,以兼顾性能与成本。


 

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